国产光刻机入选 工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

　　每经记(jì)者 朱成祥 每经编(biān)辑 梁枭(xiāo)

　　近期(qī)，工信微报(bào)微信公众号发文披露(lù)《首台(tái)（套）重大技术装备推广应用指导目录(lù)（2024年(nián)版）》。其(qí)中，在电(diàn)子专用设备一栏，氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其(qí)中。该资料显示，氟化(huà)氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和(hé)8纳米(mǐ)以下的套刻精度(dù)。

　　据东兴证券研报，光刻机可(kě)分为直写光刻机与掩膜光刻机，市场(chǎng)主(zhǔ)流有i-Iine（汞线）、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氩）、ArFi（浸润(rùn)式氟化氩(yà)）、EUV（极紫外）五大类。

　　此次入选推广(guǎng)目(mù)录的氟化(huà)氩(yà)光刻机，应属于(yú)干式ArF光刻机(jī)。在具体指标上，与ASML旗下TWINSCAN NXT：1470 以及TWINSCAN XT：1460K类似。

　　国产光刻机实力 几何？

　　据工信微报(bào)发文，此次指导(dǎo)目录是为促进首台（套）重大技术(shù)装备(bèi)创新(xīn)发展和推广应(yīng)用，加强产业、财
政、金融
、科技等国家支持政策的协
同。

　　具体来看，氟化氪光刻机晶圆直径为300mm（12英寸），照明(míng)波长为248mm，分辨率≤110nm，套刻≤25nm。相比之(zhī)下，阿斯麦（ASML）的(de)氟(fú)化氪光刻机型号(hào)有TWINSCAN NXT：870、TWINSCAN XT：860N 和
TWINSCAN XT：860M。这三个(gè)型号，波 长均为248mm，分辨率≤110nm。

　　而指导目录中更为先进的氟(fú)化氩光刻机，其(qí)照明波长为193mm，分辨
率(lǜ)≤65nm，套
刻≤8nm。这一(yī)数据与ASML旗下(xià)TWINSCAN XT：1460K 最为(wèi)接(jiē)近。该型号照明波长为193mm，分辨率≤65nm。此(cǐ)外(wài)，该系统(tǒng)可以在偏振照明下实现低至57nm的生产分 辨率。

　　相(xiāng)比之下，ASML浸润(rùn)式光(guāng)刻机TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率≤38nm。据民生证券研报，该型号(hào)可实现2.5nm的套刻精度(dù)（MMO）。

　　据东海(hǎi)证(zhèng)券援引ASML官(guān)网数据，2023年各(gè)类光刻机均价(jià)为：EUV（17386万欧元）、ArFi（7196万欧元）、ArFdry（2742万欧元）、KrF（1192万欧元）、i-Iine（399万欧元(yuán)）。

　　东海证券认为，目前光刻机国产化率仅为2.5%，整机(jī)技术(shù)与海外差距较(jiào)大，5~10 年内90nm、28nm光刻机的(de)研发量产较为关键。

　　光(guāng)刻机产业链亟须(xū)发展

　　东海证券 称，根据中(zhōng)国(guó)国际招标网(wǎng)信(xìn)息，半导体设备招标中，刻蚀、沉积等核心设备(bèi)的国产化率获(huò)得了较大的提升，核心在于技术上我(wǒ)国(guó)相关企业已经逐步追赶上 海外企业；但光刻机作为核心设备，国产(chǎn)化率不足3%，核心原因在于零组件供应与(yǔ)整机技术与(yǔ)海外差距较大。

　　9月(yuè)18日 ，东(dōng)方财富概(gài)念板块中，光刻机（胶）板块排名靠前，板块整体涨幅达(dá)2.47%。其中，同飞股份、波长光电国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”rong>均收获20%涨停；新莱应材（维权(quán)）上涨12.40%。此(cǐ)外，张江高科、海立股份、凯美特气等也涨停。

　　张江高科受关注，主要因为其曾投资上海微(wēi)电子。张江高科于9月(yuè)10日在投资者交流平台(tái)表示，公(gōng)司通过子公司上海张(zhāng)江浩成创业投资有限(xiàn)公司投资了上海微电子2.23亿元，持有上海微电子
10.779%的股权，后续(xù)未增持(chí)或减持。

　　东兴证券称，上海微电子是我国第一家也是目(mù)前唯(wéi)一的光刻机巨头，出货量占国内(nèi)市场份额超过80%，产品(pǐn)主(zhǔ)要涉及ArF、KrF和i-line领域，其已具备90nm及(jí)以下的芯片制造能力(lì)。

　　光(guāng)刻机零部件方面(miàn)，同飞股份曾在(zài)2023年中报表示(shì)，其液体恒温设备在半导体制造(zào)设备领 域，主要应(yīng)用于光刻机、刻(kè)蚀机、研(yán)磨(mó)抛光机等关键设(shè)备(bèi)的温度控制。

　　不过，根据 东兴证券研报(bào)，光刻机核心组件(jiàn)包(bāo)括光源系统、双工作台、物镜系统、对准系(xì)统、曝光系统(tǒng)、浸没系统、光栅系统等。配(pèi)套设施包括光刻(kè)胶、掩膜版、涂胶显影等。

　　光源系统(tǒng)方面，据华金证券，针对准激光光源，科益虹源主要研发248nm准分国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”(fēn)子激光(guāng)器、干式193nm准 分子(zi)激光器等；福晶科(kē)技(jì)研发KBBF晶体。

　　另据东兴(xīng)证券，波长光电为(wèi)国内激光光学元件的(de)主要(yào)供应商，目前，公司已具备提供光刻机(jī)配套的大孔径光学镜头的能力，公司成功(gōng)开发的光刻机平行光源系统(tǒng)可用于国产光刻机领域配套。

　　波长光电曾于2023年9月(yuè)15日披(pī)露投资者(zhě)活动记录表称，公司在半导体领(lǐng)域主要(yào)涉及两个领域：一个是生产领域，即曝光机、光(guāng)刻，公(gōng)司可提供大口径光学镜头(tóu)用于检测，做(zuò)折(zhé)反、投射，还可以提供(gōng)平行光源系统
；另一个(gè)是检测(cè)领域，公司可提供检测(cè)设备上的光学元件、组(zǔ)件，也(yě)可(kě)为(wèi)客户定制开发、装调子系统。

　　物镜系统方面，东兴证券称，茂莱光学 光刻机曝(pù)光物镜超精密光学元件加工(gōng)技术(shù)已实现产业化。

　　东海证券研报显示，中(zhōng)国2023年进口光刻机数量(liàng)高达225台，进口金额高(gāo)达87.54亿美元(yuán)，进口(kǒu)金额创下历史新(xīn)高，预(yù)计3~5年内我国光(guāng)刻(kè)机仍主要依赖进口。一台先进(jìn)的光刻机有多达10万 个零部(bù)件，整体来看我国半导体零组件的国产化率非常低，尽管在各个
赛道均有相关的国有企业在不断发(fā)展，但距离海外企业依然有较大的差距，同时(shí)也预示着国内零组件
企业公司有较大的发展机遇(yù)。